post

آموزش روش تنظیمات نرم افزار نوا (NOVA) جهت استخراج و تحلیل داده های موت شاتکی

از زماني که رويين شدن توسط فارادي در ۱۸۳۰ ميلادي مطرح شد، حجم بالايي از پژوهش ها بر روي اين موضوع متمرکز شده است . اما هنوز جزييات در مورد ساختار و خواص لايه هاي رويين در مقياس نانومتر به طور کامل مشخص نشده است به طور کلي لايه رويين ، داراي ساختاري دو لايه است . لايه اوليه ، لايه محافظ است که به طور مستقيم بر روي سطح فلز تشکيل مي شود و براي بيش تر فلزات داراي ضخامتي در حد چند نانومتر است. لايه ديگر لايه خارجي با غلظت عيوب نقطه اي بسيار کم است که از طريق هيدروليز کاتيون هاي خارج شده از لايه داخلي تشکيل مي شود.

به طور معمول رویین شدن فلزات و آلیاژها به تشکیل شدن لایه های مختلف اکسیدی بر روی سطح مربوط می شود که خواص نیمه هادی دارند در دهه اخیر تحقیقات فراوانی که بر روی خواص الکترونی لایه های رویین انجام شده است ،نقش به سزایی در شناخت رفتار خوردگی این لایه ها بر روی فلزات و آلیاژ ها ی مربوطه داشته است .در کنار روش های الکتروشیمیایی مانند طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی و طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس ، آزمون موت شاتکی می تواند اطلاعات مفیدی را درباره رفتار نیمه هادی لایه های رویین ارایه دهد ، آزمون موت – شاتکي يکي از روش هاي تعيين نوع -n و يا نـوع -p بـودن رفتـار نيمـه هـادي لايـه رويـين و بررسـي عيـوب موجود در آن است .

در فایل قرار داده شده در این پست، ضمن ارائه ی کلیاتی پیرامون آزمون موت شاتکی، دستگاهوری نرم افزار نوا و روش استخراج اطلاعات جهت تحلیل منحنی های موت شاتکی توضیح داده شده است.

این فایل را می توانید از لینک زیر دانلود فرمایید.

تذکر: هرگونه انتشار این مطلب در فضای مجازی غیر مجاز بوده پیگرد قانونی دارد.

دانشجویان و فارغ التحصیلان محترم رشته خوردگی و حفاظت از مواد و همچنین کسانی که پایان نامه، پاورپوینت، جزوه، کتاب، ترجمه ی مقاله یا هر مطلب قابل فروش دیگر مرتبط با موضوع خوردگی دارند می توانند جهت فروش فایل های خود از قسمت ارتباط با ما با مدیریت وبسایت تخصصی خوردگیتماس حاصل فرمایند.

post

پاورپوینت: مبانی، کاربردها و روش تحلیل آزمون موت-شاتکی

  • در کنار روشهای الکتروشیمیایی مانند طیف سنجی امپدانس الکتروشیمیایی (EIS) و طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس (XPS)، روش موت – شاتکی می تواند اطلاعات مفیدی را درباره رفتار نیمه هادی لایه های رویین ارایه دهد. این روش ما را قادر می سازد تا خواصی نیمه هادی لایه ها را مانند نوع نیمه هادی (نوع-n و یا نوع – P) و همچنین چگالی عیوب، که بسیار به ساختار و ترکیب شیمیایی لایه حساسی است، را تعیین کنیم. همچنین یکی از مهمترین مزیتهای این روش، استفاده از آن به صورت درجا است که باعث می شود تا تغییرات مختلف به وجود آمده در خواص الکترونی لایه های رویین به طور کامل ثبت شود. براي رفتار نوع-n ،شيب به طور معکوس با چگالي دهنده هاي الکترون  متناسب است. براي رفتار نوع-p ،شيب به طور معکــوس با چگالـــي گيــرنــده هـــاي الــکتـــرون متناسب است.
  • در فایل زیر در قالب پاورپوینت به طور کامل به بررسی اصول، مبانی و کاربردهای آزمون موت-شاتکی (mott-schottky) پرداخته شده است. سر فصل عناوین ذکر شده در این فایل عبارتند از:
  • *فصل مشترک و لایه دوگانه
  • *لایه دوگانه الکتریکی
  • *خازن های لایه دوگانه
  • *بررسی لایه بار فضایی
  • *ظرفیت خازنی لایه بار فضایی
  • *تعیین ظرفیت خازنی لایه بار فضایی (لایه انباشته)
  • *تعیین ظرفیت خازنی لایه بار فضایی (لایه تخلیه)
  • *تعیین ظرفیت خازنی لایه بار فضایی (لایه وارون)
  • *تعیین ظرفیت خازنی لایه بار فضایی (لایه عمیقا تخلیه شده)
  • *معادلات موت-شاتکی
  • *آزمون موت-شاتکی
  • *منحنی های موت-شاتکی
  • *تجزیه و تحلیل منحنی های موت-شاتکی
  • *تحقیقات بر روی رفتار الکترونی لایه های رویین
  • *نتیجه گیری
  • جهت خرید این فایل با ایمیل مدیر وبسایت تماس گرفته و یا از قسمت زیر اقدام فرمایید.

     

  • برای دانلود  تنظیمات نرم افزار نوا (NOVA) جهت استخراج داده های موت شاتکی و تحلیل داده های آن اینجا کلیک نمایید.

  • تذکر: هرگونه انتشار این مطلب در فضای مجازی پیگرد قانونی دارد